First principles multiscale modelling of the atomic layer deposition of Al2O3 and ZnO
First principles multiscale modelling of the atomic layer deposition of Al2O3 and ZnO
isbn9789526081502.pdf
(Aalto University - Aaltodoc)
Saved in:
| Physical Description |
95 sivua, 87 sivua useina numerointijaksoina Yhteenveto-osa julkaistu myös verkkoaineistona |
|---|---|
| Language |
English |
| Language of Original Work |
English |
| Language of Abstract |
Finnish |
| Item Description |
Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 4 eripainosta. |
| Publisher |
Helsinki :
Aalto University,
[2018]
|
| Dissertation Note | Väitöskirja : Aalto-yliopiston kemian tekniikan korkeakoulu, 2018 |
| Series | Aalto University publication series, Doctoral dissertations, ISSN 1799-4934; 2018, 161. |
| Subjects | |
| Manufacturer | Helsinki : Unigrafia, 2018. |
| Additional Information | Timo Weckman |
| Verkkoaineisto (yhteenveto-osa, PDF) |
978-952-60-8150-2 |
| ISBN |
978-952-60-8149-6 pehmeäkantinen |