First principles multiscale modelling of the atomic layer deposition of Al2O3 and ZnO
First principles multiscale modelling of the atomic layer deposition of Al2O3 and ZnO
isbn9789526081502.pdf
(Aalto-yliopisto - Aaltodoc)
Tallennettuna:
| Ulkoasu |
95 sivua, 87 sivua useina numerointijaksoina Yhteenveto-osa julkaistu myös verkkoaineistona |
|---|---|
| Kieli |
englanti |
| Alkuteoksen kieli |
englanti |
| Tiivistelmän kieli |
suomi |
| Huomautukset |
Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 4 eripainosta. |
| Julkaisija |
Helsinki :
Aalto University,
[2018]
|
| Opinnäyte | Väitöskirja : Aalto-yliopiston kemian tekniikan korkeakoulu, 2018 |
| Sarja | Aalto University publication series, Doctoral dissertations, ISSN 1799-4934; 2018, 161. |
| Aiheet | |
| Valmistaja | Helsinki : Unigrafia, 2018. |
| Lisätiedot | Timo Weckman |
| Verkkoaineisto (yhteenveto-osa, PDF) |
978-952-60-8150-2 |
| ISBN |
978-952-60-8149-6 pehmeäkantinen |