Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of silicon dioxide and aluminum oxide
Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of silicon dioxide and aluminum oxide
Linkki verkkoaineistoon
(Useita organisaatioita)
isbn9789526088839.pdf
(Aalto-yliopisto - Aaltodoc)
Linkki verkkoaineistoon
(Turun yliopisto)
Tallennettuna:
| Genre | |
|---|---|
| Ulkoasu |
Yhteenveto-osa julkaistu myös verkkoaineistona xii, 44 sivua, 40 sivua useina numerointijaksoina : kuvitettu ; 25 cm |
| Kieli |
englanti |
| Alkuteoksen kieli |
englanti |
| Huomautukset |
Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja viisi eripainosta. |
| Julkaisija |
Helsinki :
Aalto University,
2019.
|
| Opinnäyte | Väitöskirja : Aalto-yliopisto, elektroniikan ja nanotekniikan laitos, 2019 |
| Sarja | Aalto University publication series, Doctoral dissertations, ISSN 1799-4934; 2019, 235. |
| Aiheet | |
| Valmistaja | Helsinki : Unigrafia Oy |
| Lisätiedot | Zhen Zhu |
| Verkkoaineisto (yhteenveto-osa) |
978-952-60-8883-9 |
| Bibliografia |
Sisältää bibliografisia viitteitä. |
| ISBN |
978-952-60-8882-2 pehmeäkantinen |