Atomic layer deposition of noble metal thin films
Atomic layer deposition of noble metal thin films
ethesis.helsinki.fi/julkaisu...vk/aaltonen/
(Kansalliskirjasto)
Tallennettuna:
| Genre | |
|---|---|
| Ulkoasu |
Julkaistu myös painettuna |
| Kieli |
englanti |
| Alkuteoksen kieli |
englanti |
| Huomautukset |
Tiivistelmäosa. - Laboratory of Inorganic Chemistry, Department of Chemistry, Faculty of Science, University of Helsinki |
| Julkaisija |
Helsinki :
University of Helsinki,
2005.
|
| Opinnäyte | Väitöskirja : Helsingin yliopisto |
| Luokitus | |
| Aiheet | |
| Lisätiedot | Titta Aaltonen |
| Painettu |
952-91-8460-3 |
| Järjestelmävaatimukset |
Internet-yhteys, WWW-selain ; Adobe Reader |
| ISBN |
952-10-2390-2 PDF |